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用透过率测试曲线确定半导体薄膜的光学常数和厚度[J]. Journal of Semiconductors, 2005, In Press.
用透过率测试曲线确定半导体薄膜的光学常数和厚度[J]. Chin. J. Semicond., 2005, 26(2): 335.
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用透过率测试曲线确定半导体薄膜的光学常数和厚度
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Abstract
介绍了一种简单而准确地确定薄膜光学常数和厚度的方法．借助于Forouhi-Bloomer物理模型，用改进的单纯形法拟合分光光度计透过率测试曲线，获得半导体薄膜的光学常数和厚度．对射频磁控溅射和直流反应溅射制备的玻璃基板上的α-Si和ZnO薄膜进行了实验，拟合的理论曲线和实验曲线吻合得非常好．计算得到的结果与文献报道的结果和台阶仪的测量结果一致，误差小于4%．该方法对无定形或多晶的半导体薄膜都适用，也可以用于计算厚度较薄的薄膜． -
References
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