单晶纳米硅薄膜的制备及其场发射特性(英文)

Key words: 单晶纳米硅, 阳极腐蚀, 晶向一致, 场发射

Abstract: 用小电流、特殊配比溶液的电化学阳极腐蚀法在p型、〈10 0〉晶向、0 0 1Ω·cm电阻率的硅片制备了大面积纳米硅薄膜 .通过SEM ,TEM ,XRD和Raman光谱技术分析薄膜颗粒的微细结构 .实验结果表明该纳米硅薄膜由直径为10~ 2 0nm ,晶向一致的颗粒紧密排列而成 ,具有很好的物理化学稳定性 .系统研究了薄膜结构特征和溶液配比、腐蚀时间、腐蚀电流密度的关系 .成功观察到该薄膜具有很好的场发射特性 ,在 0 1μA/cm2 电流密度下 ,其开启电场为 3V/ μm ,接近碳纳米管的 1 1V/ μm .

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