Chin. J. Semicond. > 2005, Volume 26 > Issue 2 > 335-340
|

CONTENTS

用透过率测试曲线确定半导体薄膜的光学常数和厚度

沈伟东, 刘旭, 朱勇, 邹桐, 叶辉 and 顾培夫

+ Author Affiliations

PDF

Abstract: 介绍了一种简单而准确地确定薄膜光学常数和厚度的方法．借助于Forouhi-Bloomer物理模型，用改进的单纯形法拟合分光光度计透过率测试曲线，获得半导体薄膜的光学常数和厚度．对射频磁控溅射和直流反应溅射制备的玻璃基板上的α-Si和ZnO薄膜进行了实验，拟合的理论曲线和实验曲线吻合得非常好．计算得到的结果与文献报道的结果和台阶仪的测量结果一致，误差小于4%．该方法对无定形或多晶的半导体薄膜都适用，也可以用于计算厚度较薄的薄膜．

    • Search

    Advanced Search >>

    GET CITATION

    shu

    Export: BibTex EndNote

    Article Metrics

    Article views: 2763 Times PDF downloads: 3316 Times Cited by: 0 Times

    History

    Received: 19 August 2015 Revised: Online: Published: 01 February 2005

    Catalog

      Email This Article

      User name:
      Email:*请输入正确邮箱
      Code:*验证码错误
      Send
      Article Navigation >  Journal of Semiconductors  > 2005  >  26(2): 335-340
      沈伟东, 刘旭, 朱勇, 邹桐, 叶辉, 顾培夫. 用透过率测试曲线确定半导体薄膜的光学常数和厚度[J]. Journal of Semiconductors, 2005, 26(2): 335-340. ****用透过率测试曲线确定半导体薄膜的光学常数和厚度[J]. Chin. J. Semicond., 2005, 26(2): 335.
      Citation:
      沈伟东, 刘旭, 朱勇, 邹桐, 叶辉, 顾培夫. 用透过率测试曲线确定半导体薄膜的光学常数和厚度[J]. Journal of Semiconductors, 2005, 26(2): 335-340. ****
      用透过率测试曲线确定半导体薄膜的光学常数和厚度[J]. Chin. J. Semicond., 2005, 26(2): 335.
      shu

      用透过率测试曲线确定半导体薄膜的光学常数和厚度

      • Received Date: 2015-08-19

      Catalog

        Journal of Semiconductors © 2017 All Rights Reserved   京ICP备05085259号-2

        /

        DownLoad:  Full-Size Img  PowerPoint
        Return
        Return