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Pressure-Free Localized Laser Bonding for Silicon and Glass
Ma Ziwen, Tang Zirong, Liao Guanglan, Shi Tielin, Nie Lei, et al.
Chinese Journal of Semiconductors , 2007, 28(2): 217-221.
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COF结构中键合力损伤芯片Al层的研究
彭瑶玮, 陈文庆, 王志平, 肖斐
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(1): 209-214.
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电化学腐蚀法制备的SiO2包裹纳米硅颗粒结构的电致发光特性
严勇健, 吴雪梅, 诸葛兰剑
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(3): 524-527.
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非晶硅碳（a-SiC∶H）薄膜光学常数的透射谱表征
胡志华, 廖显伯
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(1): 34-37.
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5 |
SOI硅膜厚度对RESURF LDMOS参数的影响
孙智林, 孙伟锋, 吴建辉
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(3): 536-540.
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亚100nm体硅MOSFET集约I-V模型
张大伟, 章浩, 朱广平, 张雪莲, 田立林, et al.
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(3): 554-561.
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ULSI制造中硅片化学机械抛光的运动机理
苏建修, 郭东明, 康仁科, 金洙吉, 李秀娟, et al.
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(3): 606-612.
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硅热流量传感器封装的热模拟分析
高冬晖, 秦明, 黄庆安
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(2): 368-372.
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磷铝吸杂在多晶硅太阳电池中的应用
赵慧, 徐征, 励旭东, 李海玲, 许颖, et al.
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(2): 341-344.
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多孔硅/PVK复合体系的光电性能
周成瑶, 李东升, 张年生, 杨德仁
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(1): 52-56.
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11 |
硅各向异性腐蚀的原子级模拟
姜岩峰, 黄庆安
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(3): 618-623.
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12 |
一种单基极引出结构的硅晶体管
杨茹, 李国辉, 姬成周, 田晓娜, 韩德俊, et al.
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(2): 345-348.
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硅基AlN薄膜制备技术与测试分析
于毅, 任天令, 刘理天
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(1): 42-45.
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基于硅微加工工艺的微热板传热分析
余隽, 唐祯安, 陈正豪, 魏广芬, 王立鼎, et al.
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(1): 192-196.
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15 |
硅腐蚀停止技术制备超薄硅膜中的分形现象
杨道虹, 徐晨, 董典红, 张剑铭, 阳启明, et al.
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(1): 67-71.
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多孔硅新的表面处理技术
虞献文, 陈燕艳, 应桃开, 程存归, 郁可, et al.
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(2): 406-409.
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聚乙二醇含量对纳米TiO2多孔薄膜性质的影响
步绍静, 靳正国, 刘晓新, 杨立荣, 程志捷, et al.
Chinese Journal of Semiconductors , 2005, 26(2): 329-334.
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18 |
硅片直接键合杂质分布的模型与模拟
Chinese Journal of Semiconductors , 2003, 24(8): 887-891.
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InP材料直接键合技术
Chinese Journal of Semiconductors , 2001, 22(9): 1217-1221.
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20 |
直接键合硅片界面键合能的理论分析
Chinese Journal of Semiconductors , 2001, 22(2): 140-144.
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