Chin. J. Semicond. > 1988, Volume 9 > Issue 2 > 169-174
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双吸除技术在CCD制造中的应用及其具有增强吸除功能的研究

周士仁 , 叶以正 , 叶水驰 , 麦振洪 , 戴道扬 , 杨家德 and 陈慕章

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    Received: 19 August 2015 Revised: Online: Published: 01 February 1988

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      Article Navigation >  Journal of Semiconductors  > 1988  >  9(2): 169-174
      周士仁, 叶以正, 叶水驰, 麦振洪, 戴道扬, 杨家德, 陈慕章. 双吸除技术在CCD制造中的应用及其具有增强吸除功能的研究[J]. 半导体学报(英文版), 1988, 9(2): 169-174.
      Citation:
      周士仁, 叶以正, 叶水驰, 麦振洪, 戴道扬, 杨家德, 陈慕章. 双吸除技术在CCD制造中的应用及其具有增强吸除功能的研究[J]. 半导体学报(英文版), 1988, 9(2): 169-174.
      shu

      • Received Date: 2015-08-19

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