程序控制液相外延炉

Abstract: 本文介绍用于Ⅲ-Ⅴ族半导体液相外延工艺的新炉子、它的主要设计思想和所达到的指标(温度稳定度优于 ±0.03℃/24h,±0.01℃/2h;等温区均匀度优于±0.025℃/400mm;最小降温速率0.05℃/min).它采用高温铂电阻温度计作为温度的测量和反馈元件;在炉膛中央放置一根以钠为工作介质的同轴热管作为均热元件;详细地介绍了三段控制系统的控制器和可编程序的精密定值器.

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