Chin. J. Semicond. > Volume 1 > Issue 1 > Article Number: 6

低压化学蒸汽淀积(LPCVD)的计算机模拟

王季陶

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Abstract: 本文对热壁低压化学蒸汽淀积技术进行了计算机模拟计算.利用硅烷热分解可以制取均匀性良好的多晶硅膜.如假定气流中反应物径向浓度梯度为零.并引入硅烷转化率参数,就可以直接推导出淀积速率分布的理论计算式.计算结果与实验基本相符.通过电子计算机的一系列计算,从理论上得出了一些指导性的结论.

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Manuscript received: 20 August 2015 Manuscript revised: Online: Published: 01 January 1980

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