Chin. J. Semicond. > Volume 8 > Issue 6 > Article Number: 625

Al-Mo-Ti-PtSi-Si金属化系统特性研究

陈正明 , 徐建良 , 罗晋生 and 沈文正

+ Author Affiliations + Find other works by these authors

PDF

Abstract: 本文用AES法结合I-V、C-V等测量研究了Al-Mo-Ti-PtSi-Si金属化系统的特性,结果表明:该系统的钛层中有部分钛在溅射过程中被氧化;在热处理过程中,Ti及其氧化物作为阻挡层较Mo更稳定.Ti、Mo作为阻挡层经500℃以及500℃以下温度的退火时,PtSi-Si肖特基结的特性可保持稳定,退火温度到600℃时,Al开始在阻挡层比较薄弱的地方通过阻挡层到达Si界面,使阻挡层破裂并失效. 此外还用AES法分析了PtSi-Si结构的样品,结果表明:原Si片表面的天然氧化层最终分散在形成的硅化铂内,Si可能是形成大部分PtSi的扩散元.

Search

Advanced Search >>

Article Metrics

Article views: 1518 Times PDF downloads: 1065 Times Cited by: 0 Times

History

Manuscript received: 19 August 2015 Manuscript revised: Online: Published: 01 June 1987

Email This Article

User name:
Email:*请输入正确邮箱
Code:*验证码错误