Chin. J. Semicond. > 2005, Volume 26 > Issue 2 > 363-367
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利用光聚合反应制作表面平整的聚合物光栅

周进波, 孙长征, 熊兵, 王健 and 罗毅

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Abstract: 提出利用紫外光聚合反应来制作聚合物光栅的方法．实验发现，光栅的表面起伏深度很小，约为12.4～0.7nm；折射率调制较大，达到0.010左右．这种方法在低阶分布反馈聚合物激光器的制作中具有很好的应用前景．

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    Received: 19 August 2015 Revised: Online: Published: 01 February 2005

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      周进波, 孙长征, 熊兵, 王健, 罗毅. 利用光聚合反应制作表面平整的聚合物光栅[J]. Journal of Semiconductors, 2005, 26(2): 363-367. ****利用光聚合反应制作表面平整的聚合物光栅[J]. Chin. J. Semicond., 2005, 26(2): 363.
      Citation:
      周进波, 孙长征, 熊兵, 王健, 罗毅. 利用光聚合反应制作表面平整的聚合物光栅[J]. Journal of Semiconductors, 2005, 26(2): 363-367. ****
      利用光聚合反应制作表面平整的聚合物光栅[J]. Chin. J. Semicond., 2005, 26(2): 363.
      shu

      利用光聚合反应制作表面平整的聚合物光栅

      • Received Date: 2015-08-19

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