Chin. J. Semicond. > 2004, Volume 25 > Issue 7 > 824-830
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双异质外延Si/Al_2O_3/Si薄膜制作的CMOS器件

昝育德 , 王俊 , 李瑞云 , 韩秀峰 , 王建华 , 于芳 , 刘忠立 , 王玉田 , 王占国 and 林兰英

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Key words: 外延, CMOS, SOS

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    Received: 19 August 2015 Revised: Online: Published: 01 July 2004

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      Article Navigation >  Journal of Semiconductors  > 2004  >  25(7): 824-830
      昝育德, 王俊, 李瑞云, 韩秀峰, 王建华, 于芳, 刘忠立, 王玉田, 王占国, 林兰英. 双异质外延Si/Al_2O_3/Si薄膜制作的CMOS器件[J]. 半导体学报(英文版), 2004, 25(7): 824-830.
      Citation:
      昝育德, 王俊, 李瑞云, 韩秀峰, 王建华, 于芳, 刘忠立, 王玉田, 王占国, 林兰英. 双异质外延Si/Al_2O_3/Si薄膜制作的CMOS器件[J]. 半导体学报(英文版), 2004, 25(7): 824-830.
      shu

      • Received Date: 2015-08-19

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