Chin. J. Semicond. > Volume 13 > Issue 11 > Article Number: 675

埋入GaAs/AlAs周期反射层提高反射式负电子亲和势阴极效率的研究

徐宏伟 and 王鼎盛

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Abstract: 本文提出了在高掺杂反射式负电子亲和势 GaAs光阴极材料的活性层下埋入 GaAs/AlAs周期反射层,提高光的利用率,同时在界面附近引入电子势垒,提高光电子发射效率.文中对周期反射层的反射性能进行了设计和计算,并计算了埋入GaAs/AlAs周期反射层后的光电子发射效率.讨论了埋入 GaAs/AlAs周期反射层后最佳活性层厚度的选取-指出了对于扩散长度较短的材料,通过埋入周期反射层,能用较薄的活性层达到甚至超过无限厚活性层材料的极限效率.最后对光电发射实验的初步结果进行了讨论.

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Manuscript received: 19 August 2015 Manuscript revised: Online: Published: 01 November 1992

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