Chin. J. Semicond. > Volume 18 > Issue 2 > Article Number: 146

砷化镓晶体在氯化硫溶液中腐蚀速率的研究

曹先安 , 陈溪滢 , 李喆深 , 丁训民 and 侯晓远

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Abstract: 本文研究了不同条件下S2Cl2对GaAs晶体的腐蚀行为,特别是溶液浓度、温度以及摇动程度等几个重要因素对腐蚀作用的影响.在此基础上提出了S2Cl2处理的较佳条件:对于S2Cl2钝化,应选择低浓度的钝化液(<20%)在较低的室温下进行,而S2Cl2作为GaAs外延预处理手段则选用较高浓度的溶液在较短时间内完成可以得到较好的效果;对于以上两种情形,溶液温度一般控制在20℃以下.

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Manuscript received: 19 August 2015 Manuscript revised: Online: Published: 01 February 1997

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