Chin. J. Semicond. > 2005, Volume 26 > Issue 1 > 34-37
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非晶硅碳（a-SiC∶H）薄膜光学常数的透射谱表征

胡志华 and 廖显伯

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Abstract: 报道了一种用透射谱数据分析法计算非晶硅碳薄膜的厚度、折射率、吸收系数和光学带隙等光学常数的方法和程序．这一方法引用有效谐振子模型理论的折射率色散关系，所有公式均为解析表达式，便于进行数据处理，无须专用软件，使用Excel即可完成，适用于多种半导体薄膜材料．将这种方法应用于PECVD方法制备的非晶硅碳（a-SiC∶H）薄膜，对其光学特性进行了分析．

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    Received: 19 August 2015 Revised: Online: Published: 01 January 2005

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      胡志华, 廖显伯. 非晶硅碳（a-SiC∶H）薄膜光学常数的透射谱表征[J]. Journal of Semiconductors, 2005, 26(1): 34-37. ****胡志华, 廖显伯. 2005: 非晶硅碳（a-SiC∶H）薄膜光学常数的透射谱表征. Journal of Semiconductors, 26(1): 34-37.
      Citation:
      胡志华, 廖显伯. 非晶硅碳（a-SiC∶H）薄膜光学常数的透射谱表征[J]. Journal of Semiconductors, 2005, 26(1): 34-37. ****
      胡志华, 廖显伯. 2005: 非晶硅碳（a-SiC∶H）薄膜光学常数的透射谱表征. Journal of Semiconductors, 26(1): 34-37.
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      非晶硅碳（a-SiC∶H）薄膜光学常数的透射谱表征

      • Received Date: 2015-08-19

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