null. null[J]. Chin. Journal of Semiconductors, 2004, 25(5): 502.
王刘坤, T Bearda, K Kenis, S Arnauts, P V Doorne, 陈寿面, P Mertens, M Heyns. 金属沾污对超薄栅氧(2. 5nm)特性的影响(英文)[J]. Chin. J. Semicond., 2004, 25(5): 502..Export: BibTexEndNote
王刘坤, T Bearda, K Kenis, S Arnauts, P V Doorne, 陈寿面, P Mertens, M Heyns. 金属沾污对超薄栅氧(2. 5nm)特性的影响(英文)[J]. Chin. J. Semicond., 2004, 25(5): 502...