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Volume 10, Issue 12, Dec 1989

    CONTENTS

  • InPδ掺杂的输运特性

    程文超, A.Zrenner, 叶秋怡, F.Koch

    Chin. J. Semicond.  1989, 10(12): 885

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    测量了用MOCVD技术制造的InP δ掺杂样品的磁输运特性,量子化Hall效应和高电场下的热电子效应.得到了该样品的载流子分布,子能带结构,杂质传播宽度和电子迁移率等基本物理参数,观察到填充因子v=2的量子Hall平台和负微分电阻现象,建立和证实了δ掺杂样品的热电子传输模型.

  • 折射率缓变波导层分别限制单量子阱半导体激光器的模式分析

    郭长志, 陈水莲

    Chin. J. Semicond.  1989, 10(12): 892

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    本文提出一种能够精确分析波导层具有任意折射率分布而且收敛性好的分层逼近迭代法,研究了折射率缓变波导层分别限制单量子阱(GRIN-SCH-SQW)中波导层的折射率分布对近场分布,近场束宽,光限制因子,远场分布,远场角,激射阈值的作用,并与延伸抛物型近似解和折射率突变波导层分别限制单量子阱半导体激光器进行较全面的比较.结果表明:延伸抛物型近似不宜普遍采用;采用适当的缓变波导层可进一步降低阈值(例如采用抛物型或线性分布),或进一步减小远场角(例如采用倒抛物型分布).

  • 新生界面陷阱对Fowler-Nordheim电压漂移的影响

    谭长华, 许铭真, 王阳元

    Chin. J. Semicond.  1989, 10(12): 904

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    用陷阱俘获模型和恒流方法研究了新生界面陷阱对薄氧化层MOS电容器的F-M(Fow-ler-Nordheim)电压(V_(FN))的影响,得到了电压漂移量△V_(FN)随时间变化的解析表述式.分析结果表明:(d△V_(FN))/(dt)vs △V_(FN)曲线可以用几段直线描述.采用线性化技术,可以方便地识别多陷阱现象.并分别提取原生陷阱及新生陷阱参数.实验结果表明:在恒流隧道电子注入的初始阶段,F-N电压漂移量主要由新生界面陷阱的电子俘获过程所决定,紧接着是原生氧化层体陷阱的电子俘获,然后是新生氧化层体陷阱的电子俘获.

  • 热退火对分子束外延生长的高纯GaAs薄膜中深能级的影响

    徐鸿达, T.G.Andersson

    Chin. J. Semicond.  1989, 10(12): 912

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    用深能级瞬态谱(DLTS)研究了分子束外延生长的高纯GaAs薄膜中的深能级.带金电极的高纯GaAs薄膜经不同温度的热退火,其DLTS峰谱的位置和幅度均发生变化.这是由于在热退火中金电极与GaAs反应,从而出现各种各样的DLTS峰谱.来用器件制造的台面腐蚀工艺去除反应物后的DLTS峰谱退化为一个单峰谱.本文结合伏安特性的测量结果对DLTS峰谱的变化进行了分析和讨论.

  • LEC GaAs中缺陷的光致发光研究

    陈廷杰, 吴灵犀, 王占国, 何宏家, 林兰英

    Chin. J. Semicond.  1989, 10(12): 917

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    本文用4.2K光致发光研究了LEC GaAs的热感生缺陷.热退火时样品分别为无包封,包封或用一个未掺杂的SI-GaAs片覆盖.退火温度为650-850℃,退火在不同气氛下进行(真空,H_2,N_2,H_2+N_2或H_2+As_2). 与缺陷有关的发光带有1.443eV,1.409ev和0.67eV发光带.1.443eV发光带不仅在富Ga的GaAs中出现,而且在富As的热稳定性好的SI-GaAs晶体并经过850℃(在H_2中)热退火的样品中也观测到此发光带.这可能是在退火过程中促进反位缺陷GaAs的形成.1.443eV发光带与GaAs有关.GaAs晶体在H_2中退火后1.409eV峰很强,但在真空中退火末探测到此发光带.文中提出它可能是热退火时氢原子扩散到GaAs晶体中并与某些缺陷结合成络合物的新观点.

  • Pd/a-Si:H界面的光电子能谱研究

    赵特秀, 沈波, 刘洪图, 季明荣, 吴建新, 许振嘉

    Chin. J. Semicond.  1989, 10(12): 924

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    本文利用光电子能谱(XPS、UPS)技术研究了Pd淀积层与离子注入制备的a-Si∶H层组成的系统.本工作分析了Pd/a-Si∶H的界面键合状态及组分分布的变化对价带谱与芯能级谱的影响,并与Pd/C-Si系统的结果进行了比较.结果表明:Pd/a-Si∶H界面具有与Pd/C-Si界面相似的电子结构;但是,Pd原子在a-Si∶H中具有较大的扩散速率,因此,处于更富Si的环境中。

  • 半导体3-D磁敏器件的设计与分析

    刘亿, 赖宗声

    Chin. J. Semicond.  1989, 10(12): 930

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    本文将普通的双极型IC工艺用干磁敏器件的制作中,成功地研制了一种新型三维磁敏晶体管,并在理论和实验上分析讨论了其灵敏度、线性度和失调等问题.用该方法制作的器件对B_x分量的灵敏度S_(xx)较国外文献报道的高一个数量级.

  • 具有单元自动生成的多元胞布图方法

    蒋君伟, 唐璞山

    Chin. J. Semicond.  1989, 10(12): 936

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    本文提出一种新的多元胞自动布图方法.主要由四个部分构成,块的生成、块内一维布局、单元生成、通道布线.其中第一部分采用了分析的方法完成各个块的生成,目标为使连线最短和块之间连线和隔块连线最少.第二部分中引入了伪单元的概念以处理含有约束的一维布局问题,解决了各个块之间的相互连线关系以及隔块连线.第三部分中的单元生成,引入了类似硅编译的一些思想,在硅编译与传统的自动布局方法之间的结合方面做一些有益的尝试.第四部分的通道布线是一个比较灵活的方法,可以解决用户提出的各种工艺上的要求的布线,提高了布图的物理性能. 整个过程用C语言编成程序并已在PCS-68000机上运行.

  • 高纯气体中痕量金属杂质的测定

    崔仙航, 徐学敏, 严性天, 郎文卉

    Chin. J. Semicond.  1989, 10(12): 945

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    本工作深入研究了高纯氮、氢、氯化氢、氨、硼烷、硅烷、砷烷及磷烷中钼、钙、铬、铜、铁、钾、锰、钠、铅和锌十种常见金属杂质的测定方法,解决了易燃、易爆及剧毒气体的取样,溶液的吸收条件及基体分离等问题.建立了无火焰原子吸收光谱法测定ng·g~(-1)量级的杂质,方法灵敏,简便,对生产及研制工艺将起积极的指导作用.

  • 硅中Mo-B络合物的电荷分布

    吴汲安, 周洁, 张大仁

    Chin. J. Semicond.  1989, 10(12): 952

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    我们对硅中Mo-B络合物的电子态作了SW-Xα自洽计算.通过体系电荷分布分析,结合前文Pd-B络合物的结果,对已被广为接受的描写间隙位过渡金属杂质和替代位IIIA族受主杂质络合物的离子模型的正确性提出了怀疑.

  • 重掺Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体载流子浓度的光测法研究

    徐谨民, 邵丽影, 吴敏

    Chin. J. Semicond.  1989, 10(12): 955

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    本文应用计算机,绘出各类重掺Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体在不同等离子频率ω_p下的反射率曲线,从中找出了反射谱的高低频反射边在反射率极小值处所对应的频率ω_1与ω_2之和与ω_p间的函数关系.并应用此关系对不同载流子浓度的重掺Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体GaAs和Inp样品进行实验上的验证,获得了满意的结果.

  • 硅衬底上GaAlAs/GaAs单量子阱激光器

    庄婉如, 石志文, 杨培生, 梅野正義, 神保孝志, 曾我哲夫

    Chin. J. Semicond.  1989, 10(12): 960

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    采用MOCVD方法在硅衬底上生长了带应力超晶格的GaAlAs/GaAs单量子阱外延片,并用质子轰击隔离法制成10微米条形单量子阱激光器.在室温下加脉冲电流(重复频率26KHz,脉宽1μs)观察到受激发射.最低阈电流92mA、激射波长849.2nm,外微分量子效率11%.

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